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  • 新闻资讯

    2018-12-24

    苏大维格自主研发的激光图形化直写设备MiScan成功进入欧洲市场

    近日,苏大维格团队带着公司自主研发的激光图形化直写设备MiScan200前往欧洲交付调试,团队凭借专业的技术能力及严谨的工作态度深受客户好评。

    2018-11-12

    2018苏大维格集团知识产权年会暨模拟法庭”圆满落幕

    11月9日,由苏州苏大维格科技集团股份有限公司主办,苏州市育山科技协会、江苏简文律师事务所协办的“2018苏大维格集团知识产权年会暨模拟法庭”圆满落幕。本次年会旨在通过现场交底书撰写与模拟法庭实战演练的方式,提升研发人员对专利文本的理解,以及IP人员的实务水平。相信通过每年举办实战活动和激励措施,以及日常系列培训和每周定期的交流挖掘,公司研发人员的技术及交底能力和整体知识产权实力会有质的提升。

    2018-10-17

    庆祝改革开放40年 苏州上市企业巡礼 | 苏大维格:攻克“无人区” 抢占市场高地

    苏大维格科技集团股份有限公司总裁朱志坚看来,苏大维格一直以研发、自主创新作为企业的发展思路,以拒绝做“跟随者”的态度,攻克所属领域的“无人区”,他相信企业会越来越坚定,把技术开发和创新做好,迎接更大的发展。

    2018-06-26

    全国机动车号牌企业技术交流会在苏州顺利召开2018年6月

    全国机动车号牌企业技术交流会于2018年6月1日-2日在美丽的苏州—书香世家酒店(月亮湾店)举办,再次为各企业单位之间搭建一个技术交流的平台,来自全国各省、市、自治区的28家号牌制作单位,共55人参加了本次会议。

     

    背光模组超薄导光板(膜)

    热压印工艺将精密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构有效地将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。

     

    大尺寸透明导电膜(模组)

    “基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

     

    创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

    苏州苏大维格科技集团股份有限公司

     

    总部

    苏州市新昌路68号,苏州工业园区(独墅湖大道南侧,与金堰路交叉口)
    电话:+86-512-6286 8882
    传真:+86-512-6260 0602
    邮箱:[email protected]

    最新公告

    2019-01-09

    项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

    超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件上的微透镜有数千万个以上;一件口径10mm以上的超透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以上的数据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量级增大;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效率。如何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并行处理、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬底伴随着不平整度远大于光刻系统的焦深,因此,必须解决衬底不平整性对微结构分辨率和保真度的影响,解决与成像焦深的矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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    2019-01-09

    项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

    研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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    2019-01-09

    项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

    在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未有效解决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,分辨率可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打?。⊿LA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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    2018-12-24

    苏大维格攻克了AR纳米波导镜片批量化关键技术

    苏大维格依托多参数调控的纳米光栅直写设备 Nanocrystal200、纳米光栅曝光与复制工艺,实现纳米全息波导镜片复杂结构单元的精确制备,纳米结构周期调控精度达0.1nm。该自主研发的纳米图形化光刻设备,可实现纳米光栅深度、倾角、周期分布和空间取向的调控,输出的空间成像的光场均匀。攻克了波导镜片的制备的稳定性、一致性工艺,以及波导镜片的工程化和批量化的相关关键技术。支持更多的设计自由度和制作具有大FOV的纳米全息波导镜片。

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